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연속 다중 챔버 마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템
1. 새롭게 출시된 비티씨-600GC-오전 마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템은 주파수 변조 모터로 구동되어 높은 수준의 자동화를 제공합니다.
2. 당사 기술부에서 세심하게 설계하고 제어하는 마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템은 장비 작동의 안정성을 크게 향상시키고 사용자 경험을 크게 향상시킵니다.
3. 마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템은 유사 제품에 비해 적용 범위가 더 넓고, 컴팩트한 사이즈로 보관이 용이합니다.
- Shenyang Kejing
- 중국 선양
- 10일 근무
- 50세트
- 정보
마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템 소개:
비티씨-600GC-오전 스퍼터링 코팅기는 새롭게 개발된 고성능 박막 제조 장비로, 이송 챔버와 스퍼터링 코팅 챔버로 구성됩니다. 기판 홀더는 주파수 변조 모터로 구동되는 두 챔버 사이를 왕복하며, 자동 동기 작동을 구현합니다. 왕복 스트로크 위치와 작동 속도는 정밀하게 설정 가능합니다. 스퍼터링 코팅기의 두 챔버 모두 위치 보정 기능을 갖추고 있어 신속한 원점 복귀를 지원하여 공정의 안정성과 반복성을 보장합니다.
스퍼터링 코팅기는 강유전체 박막, 전도성 박막, 합금 박막, 반도체 박막, 세라믹 박막, 유전체 박막, 광학 박막, 산화물 박막, 경질 박막, PTFE 박막 등 다양한 유형의 박막을 제조하는 데 적합합니다. 스퍼터링 코팅기는 다중 타겟 구조를 갖출 수 있으며, RF 전원 공급 장치(비전도성 타겟용) 및 DC 전원 공급 장치(전도성 타겟용)와 함께 사용하여 다양한 재료 시스템의 스퍼터링 코팅 요구 사항을 충족할 수 있으므로 널리 적용할 수 있습니다.
기존 장비에 비해 비티씨-600GC-오전 스퍼터링 코팅 장비는 광범위한 응용 분야와 뛰어난 기능 확장성을 자랑할 뿐만 아니라, 컴팩트한 구조, 편리한 조작, 그리고 작은 설치 공간을 자랑합니다. 고품질 박막 소재의 실험실 제조에 이상적인 시스템이며, 특히 고체 전해질, OLED, 유/무기 광전자 소재와 같은 최첨단 연구 분야에 적합합니다.
비티씨-600GC-AM은 안정적이고 신뢰할 수 있는 성능, 높은 균일성 스퍼터링 효과, 유연한 확장 기능을 통해 연구자들에게 전문적이고 효율적인 박막 제조 솔루션을 제공합니다.
마그네트론 스퍼터링 코팅 장비의 주요 특징:
• 듀얼 챔버 구조: 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비는 이송 챔버와 스퍼터링 챔버로 구성되어 있어 빠른 샘플 이동과 연속 코팅이 가능하며, 필름 제조 효율을 크게 향상시킵니다.
• 유연한 다중 타겟 구성: 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비는 다중 타겟 건을 장착할 수 있으며, RF 및 DC 전원 공급 장치를 모두 지원하며, 전도성 및 비전도성 타겟 모두에 적합합니다. 타겟 건은 공정 요건에 따라 자유롭게 교체할 수 있습니다.
• 광범위한 응용 분야: 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비는 금속, 산화물, 세라믹, 유전체, 광학 필름 등 다양한 유형의 박막을 제조할 수 있어 여러 분야의 연구 요구를 충족합니다.
• 컴팩트한 크기와 간편한 조작: 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비는 설치 공간이 작고 레이아웃이 합리적이어서 실험실에서 사용하기 편리합니다.
• 모듈형 설계: 이송 챔버, 진공 챔버, 펌프 세트, 전원 공급 장치를 모두 독립적으로 구성할 수 있어 확장과 유지 관리가 용이합니다.
• 선택 가능한 전원 공급 구성: 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비는 여러 타겟 건의 단일 전원 공급 제어 또는 여러 전원 공급의 독립적인 제어를 지원하여 다양한 필름 제조 공정의 요구 사항을 충족합니다.
마그네트론 스퍼터링 코팅 장비의 기술적 매개변수:
| 제품명 | 비티씨-600GC-오전 연속 다중 챔버 마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템 |
| 제품 모델 | 비티씨-600GC-오전 |
| 주요 매개변수 | 1. 장비 구조: 테이블탑 전면 개방형 디자인, 후면 장착 진공 시스템 레이아웃. 2. 최대 진공도: 6.0 × 10⁻⁵ 아빠. 3. 누설률: ≤ 0.5 아빠 / 1 h. 4. 펌핑 효율 : 대기압에서 5.0×10⁻³ Pa까지 펌핑하는데 약 5분이 소요됩니다. 5. 진공 펌프 어셈블리: 기계식 펌프 + 분자 펌프 조합. 6. 샘플 단계 매개변수: · 치수: φ140 mm; · 온도 범위: 실온 ~ 500℃(요청에 따라 증가 가능) · 온도 제어 정확도: ±1℃; · 회전 속도: 조절 가능 5~20 분당 회전수; · 필름 품질을 개선하기 위한 옵션 바이어스 모듈. 7. 입구 시스템: 듀얼 채널 질량 유량계(아르/N₂). 8. 타겟 설치 각도: 타겟과 샘플 스테이지 중심축 사이의 각도는 34°입니다. 9. 타겟 수: 표준 구성: 타겟 3개, 120° 간격(더 많은 타겟을 사용자 정의할 수 있음). 10. 목표 냉각 방식 : 수냉. 11. 타겟 소재 치수: φ2″, 두께 0.1–5 mm (두께는 타겟 소재의 종류에 따라 다름). |
| 규정 준수 | 추가 비용으로 세 인증, UL 또는 CSA 인증을 받을 수 있습니다. |
마그네트론 스퍼터링 코팅 시스템의 주요 작동 포인트:
1. 기판 표면 처리: 코팅 전, 기판은 균일한 접착력과 우수한 내구성을 보장하기 위해 적절한 표면 처리가 필요합니다. 표면 처리 방법에는 세척, 오염 제거, 연마, 에칭 등이 있습니다.
2. 코팅 선택: 코팅을 선택할 때는 물리화학적 특성, 용해도, 점도, 고형분 함량을 고려해야 하며, 재료 요구 사항에 따라 적합한 코팅을 선택해야 합니다.
3. 코팅 두께 제어: 코팅 두께는 코팅 성능에 영향을 미치는 중요한 요소 중 하나입니다. 코팅 두께는 코팅 공정 중에 제어되어야 하며, 일반적으로 와이어 로드 또는 닥터 블레이드 스크레이핑 속도, 코팅기의 도막 두께, 그리고 코팅 점도를 제어합니다.
4. 코팅 균일성 관리: 코팅 균일성은 코팅 성능에 중요한 영향을 미칩니다. 코팅 공정 중 코팅의 균일한 분포를 유지하고 코팅 표면에 눈에 띄는 결함이나 기포가 없도록 하는 것이 중요합니다.
5. 코팅기 매개변수 설정: 코팅기의 매개변수 설정 또한 매우 중요합니다. 코팅의 품질과 성능을 보장하기 위해서는 코팅기의 온도, 속도, 진공도 및 기타 매개변수를 다양한 코팅 및 기판 유형에 따라 적절하게 설정해야 합니다.
6. 안전 작동: 코팅기 작동 시에는 안전 예방 조치를 취해야 하며, 특히 일부 물질은 독성이 있으므로 더욱 주의해야 합니다. 작업자와 환경에 대한 피해를 방지하기 위해 보안경, 장갑, 호흡기를 착용하는 것이 좋습니다.
당사 서비스에 관하여:
저희는 수년간 실험실 장비 연구 및 설계에 집중해 왔으며, 탁월한 기술력과 풍부한 경험을 보유하고 있습니다. 특히 평판 코팅 장비 분야에서는 오랜 연구 개발 경험을 바탕으로 정밀성, 안정성, 효율성 측면에서 탁월한 성능을 자랑합니다.
