고진공 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비

실험실 코팅 장비 소개:

비티씨-800G는 당사가 독자적으로 개발한 소형 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비입니다. 이 소형 코팅 장비는 단층 또는 다층 강유전체막, 전도성막, 합금막, 반도체막, 세라믹막, 유전체막, 광학막, 산화막, 경질막, 폴리테트라플루오로에틸렌막 등의 제조에 널리 사용됩니다.

소형 코팅 장비에는 비전도성 재료의 RF 전력 스퍼터링과 전도성 재료의 DC 전력 스퍼터링을 지원하는 다중 타겟 건 시스템을 장착하여 다양한 공정 요구 사항을 충족할 수 있습니다.

유사 장비와 비교했을 때, 비티씨-800G 소형 코팅 장비는 크기가 작고 조작이 간편하며 적용 범위가 유연합니다. 기능성 박막 소재의 실험실 제조에 이상적인 선택이며, 특히 고체 전해질 및 OLED와 같은 신소재의 연구 개발에 적합합니다.

정밀 코팅 장비의 주요 특징:

1. 소형 코팅 장비는 여러 개의 타겟 건을 장착할 수 있으며, RF 및 DC 전원 공급 장치를 지원하여 각각 비전도성 및 전도성 타겟 재료의 스퍼터링 코팅에 사용되며, 타겟 건은 필요에 따라 유연하게 교체할 수 있습니다.

2. 정밀코팅장비는 다양한 기능성 필름 제조에 적합하며, 적용범위가 넓습니다.

3. 정밀코팅장비는 크기가 작고, 구조가 컴팩트하며, 조작이 간편하고, 각종 실험실 환경에 적합합니다.

4. 정밀코팅장비는 모듈형 설계로 진공챔버, 펌프그룹, 전력제어시스템이 분리되어 실제 수요에 따라 유연하게 조합이 가능합니다.

5. 실험실 코팅 장비는 다양한 전원 제어 방법을 지원합니다. 단일 전원 공급 장치가 여러 개의 대상 총을 제어하거나 여러 전원 공급 장치가 독립적으로 대상 총을 제어하여 다양한 공정 요구 사항을 충족합니다.

정밀 코팅 장비의 기술적 매개변수:

제품명	마그네트론 스퍼터링 코팅 장비
제품 모델	비티씨-800G
주요 매개변수	1. 챔버 구조: 원통형 상단 커버 디자인, 후면 배기 시스템. 2. 최대진공도 : 6.0×10-5 아빠. 3. 진공 누출율: 1시간 이내 ≤0.5 아빠. 4. 배출시간 : 대기압에서 5.0×10-3 Pa까지 약 30분. 5. 진공펌프 그룹 구성 : 기계식 펌프 + 분자 펌프. 6. 샘플 단계 매개변수: · 사이즈 : Ø205 · 온도 범위 : 실온 ~ 500℃, 정확도 ±1℃ · 회전속도 : 5~20rpm (조절 가능). 7. 바이어스 기능: 선택 사항(필름 품질을 개선하는 데 사용됨). 8. 가스 충전 시스템: 듀얼 채널 질량 유량계(아르곤/질소 각 1개) 9. 타겟 헤드 각도 : 타겟 헤드와 샘플 스테이지 중심축 사이의 각도는 34°입니다. 10. 타겟 헤드 개수: 표준 2개(옵션으로 4개까지 확장 가능). 11. 타겟건 냉각방식 : 수냉 12. 타겟 소재 사양: 직경 Ø3″, 두께 0.1~5mm (타겟 소재에 따라 다름)
	13. 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비의 사양: · 전체 크기: 700mm×1093mm×1380mm

회사 소개:

저희 회사는 수년간 필름 제작 분야에 깊이 관여해 왔으며 풍부한 경험을 보유하고 있습니다. 다양한 소재에 적합한 다양한 장비를 보유하고 있어 고객의 다양한 요구를 충족시켜 드립니다. 장비의 효과 테스트도 도와드립니다. 샘플을 제공해 주시면 저희가 직접 샘플을 제작하여 제품의 효과를 더욱 직관적으로 확인하실 수 있도록 도와드립니다. 제품에 만족하시면 구매를 통해 더욱 원활하게 작업하실 수 있습니다.