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구형 펄스 레이저 증착 시스템
본 시스템은 구형 펄스 레이저 증착 시스템(플디)을 위한 연구개발 장비입니다. 펄스 레이저 증착 기술은 널리 사용되고 있으며, 금속, 반도체, 산화물, 질화물, 탄화물, 붕화물, 규화물, 황화물, 불화물 등 다양한 물질의 박막을 제조하는 데 사용될 수 있습니다. 다이아몬드나 입방정 질화물 박막처럼 합성이 어려운 재료 박막을 제조하는 데에도 사용됩니다.
- Shenyang Kejing
- 중국 선양
- 44일 근무
- 50세트
- 정보
제품 소개
그만큼구형 펄스 레이저 증착(플디) 시스템첨단 박막 제조를 위해 설계된 고성능 연구 개발 플랫폼입니다. 펄스 레이저 증착(플디)은 고에너지 레이저 빔을 대상 물질의 작은 영역에 집중시키는 기술입니다. 강력한 에너지 밀도는 대상 물질의 일부를 기화시키거나 이온화시켜, 방출된 물질이 기판으로 이동하여 응축되어 박막을 형성합니다.
다양한 박막 제조 방법 중 PLD는 금속, 반도체, 산화물, 질화물, 탄화물, 붕화물, 실리사이드, 황화물, 불화물 등 광범위한 재료의 증착에 널리 적용되어 왔습니다. 또한 다이아몬드나 입방정 질화붕소(c-비엔)와 같이 합성이 어려운 재료의 박막도 제작할 수 있습니다.
그만큼구형 플디 시스템구형 진공 챔버 설계를 특징으로 하며, 고에너지 레이저 펄스(전력 < 4kW)를 사용하여 정밀한 타겟 증착을 통해 금속, 산화물 및 질화물의 균일한 박막 증착을 가능하게 합니다. 높은 진공 성능은 탁월한 박막 순도를 보장합니다. 4단계 회전 타겟 어셈블리는 진공을 깨지 않고도 다양한 소재의 순차적인 증착을 가능하게 합니다.
관찰창과 엠에프씨(전자현미경)로 제어되는 가스 유입구가 장착된 스테인리스 스틸 챔버로 구성된 이 시스템은 다이아몬드 및 입방정 질화물과 같은 내화성 재료를 이용한 실험을 지원합니다. 이 장비는 최첨단 박막 연구를 수행하는 대학 및 연구 기관, 특히 박막 조성과 미세 구조에 대한 엄격한 제어가 필요한 연구에 이상적입니다.
주요 특징
1. 구형 진공 챔버 설계:아르곤 아크 용접으로 304 스테인리스 스틸로 제작되어 유효 챔버 직경이 Φ300mm입니다. 실시간 실험 모니터링을 위한 가시광선 관찰창이 장착되어 있습니다.
2. 초고진공 성능:매우 높은 최종 진공도, 빠른 펌핑 속도, 낮은 누설률을 달성합니다.
3. 정밀 레이저 증착:고에너지 레이저 펄스(<4kW)를 활용하여 대상 물질을 증발시켜 금속, 산화물, 질화물 및 기타 복합 재료의 박막 증착을 지원합니다.
4. 4개 타겟 회전 시스템:셔터를 통한 단일 타겟 노출과 행성 및 자체 회전 기능을 갖추고 있어 다양한 소재의 연속 증착이 가능합니다.
5. 고온 기판 홀더:복잡한 공정 요구 사항을 충족시키기 위해 정밀한 온도 제어와 조절 가능한 회전 속도를 제공합니다.
6. 연구 등급 호환성:다이아몬드 및 입방 질화물 필름과 같은 내화성 재료를 제조할 수 있어 첨단 소재 연구개발에 이상적입니다.
7. 지능형 안전 구성:베이킹, 조명, 수압 경보 시스템이 내장되어 있으며, 엠에프씨 제어 가스 유입구(0~100sccm)를 통해 안정적인 공정 조건이 보장됩니다.
8. 빠른 복구 기능:12시간 동안 펌프를 정지한 후에도 진공을 ≤20 Pa로 유지하여 실험 효율성을 향상시킵니다.
9. 모듈형 구조:기판 홀더와 회전 타겟 시스템 사이의 거리를 조절할 수 있어 다양한 증착 설정에 유연하게 적응할 수 있습니다.
10. 소규모 생산에 최적화됨:대학과 연구 기관에 적합하며 탐색적 연구와 정밀한 박막 제작을 결합합니다.
티기술적 매개변수
제품명 | 구형 펄스 레이저 증착 시스템(플디) |
설치 조건 | 1. 주변 온도: 10℃～35℃ 2. 상대 습도 : 75% 이하 3. 전원 공급 : 220V, 단상, 50±0.5Hz 4. 장비 전력 : 4kW 미만 5. 급수 : 수압 0.2MPa～0.4MPa, 수온 15℃～25℃ 6. 장비 주변 환경은 청결해야 하며, 공기는 깨끗해야 하며, 전기제품이나 기타 금속 표면에 부식을 일으키거나 금속 간의 전도를 일으킬 수 있는 먼지나 가스가 없어야 합니다. |
주요 매개변수 (사양) | 1. 시스템은 구형 구조와 수동식 전면 도어를 채택했습니다. 2. 진공챔버 구성품 및 부속품은 모두 고품질 스테인리스 스틸(304)로 제작되었으며, 아르곤 아크 용접을 하였고, 표면은 유리 분사 및 전기화학 연마 및 부동태화 처리를 거쳤습니다. 3. 진공 챔버에는 육안 관찰창이 장착되어 있습니다. 진공 챔버의 유효 크기는 Φ300mm입니다. 4. 진공도 한계 : ≤6.67×10-5아빠 (베이킹 및 탈기 후 600L/S 분자 펌프를 사용하여 공기를 펌핑하고 전단에는 8L/S를 사용함); · 시스템 진공 누출 감지 누출률 : ≤5.0×10-7아빠.L/S; · 시스템은 대기에서 8.0×10의 공기를 펌핑하기 시작합니다.-440분이면 도착할 수 있는 아빠; · 펌프 정지 후 12시간 후 진공도 : ≤20 아빠 5. 샘플 스테이지: 샘플 크기는 φ40mm이고, 회전 속도는 1-20RPM이며, 기판 스테이지와 회전 타겟 사이의 거리는 40-90mm입니다. 6. 시료의 최대 가열 온도: 800℃, 온도 제어 정확도: ±1℃, 온도 제어 미터를 사용하여 온도 제어합니다. 7. 4스테이션 회전 타겟: 각 타겟 위치는 φ40mm이며, 배플/셔터에는 타겟 위치가 하나만 노출되고, 레이저 빔은 최상단 타겟 위치에 도달해야 하며, 회전 타겟은 회전과 자동 회전 기능을 갖습니다. 8. 진공챔버 내부에 베이킹, 조명, 수압 경보장치가 설치되어 있습니다. 9. 엠에프씨 단방향 질량 유량계(흡입 공기 제어용): 0-100sccm |
보증
1년 제한 보증, 평생 지원(부적절한 보관 조건으로 인한 녹슨 부품 제외)
기호 논리학
