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기판 및 웨이퍼 코팅을 위한 3개 타겟 마그네트론 스퍼터링 코터

1. 글러브 박스가 장착된 박막 배터리 제조 시스템은 3개의 타겟 건을 갖추고 있으며, 일치하는 RF 전원 공급 장치는 변환 스위치를 통해 모든 타겟 헤드에 연결될 수 있으며, 이는 다양한 타겟 재료의 스퍼터링 코팅에 사용됩니다(타겟 건은 고객 요구에 따라 언제든지 교체할 수 있음).
2. 글러브 박스를 갖춘 박막 배터리 제조 시스템은 다양한 박막을 제조할 수 있으며 널리 사용됩니다.
3. 글러브 박스가 있는 박막 배터리 준비 시스템은 크기가 작고 조작이 매우 쉽습니다.

  • Shenyang Kejing
  • 선양, 중국
  • 10일 근무일
  • 50세트
  • 정보

컴팩트 플라즈마 스퍼터링 코터 소개:

글러브 박스가 있는 비지비(VGB)-600-3HD 박막 배터리 제조 시스템은 글러브 박스에서 실험 작업에 사용할 수 있으며, 단층 또는 다층 강유전체 박막, 전도성 박막, 합금 박막, 반도체 박막, 세라믹 박막, 유전체 박막, 광학 박막, 산화물 박막, 경질 박막, 폴리테트라플루오로에틸렌 박막 등을 제조하는 데 사용됩니다. 컴팩트한 플라즈마 스퍼터링 코터에는 3개의 타겟 건이 장착되어 있으며, 일치하는 RF 전원 공급 장치는 변환 스위치를 통해 모든 타겟 헤드에 연결할 수 있으며, 이는 다양한 타겟 재료의 스퍼터링 코팅에 사용됩니다. 유사한 장비와 비교할 때, 컴팩트한 플라즈마 스퍼터링 코터는 널리 사용될 뿐만 아니라 소형이고 조작이 쉽다는 장점이 있습니다. 이는 재료 필름의 실험실 제조에 이상적인 장비입니다. 컴팩트한 플라즈마 스퍼터링 코터는 박막 배터리, 고체 전해질 및 OLED에 대한 실험실 연구에 특히 적합합니다. 일반적인 마그네트론 스퍼터링과 비교할 때, 리 타겟 및 리튬 기반 재료 타겟에 대한 코팅 실험에 사용할 수 있습니다. 이 장비는 신에너지 산업 분야의 실험실 코팅 실험에 이상적인 장비입니다.

Compact plasma sputtering coater


3가지 타겟 RF 마그네트론 스퍼터링 코터의 장점:

1. 3개 타겟 RF 마그네트론 스퍼터링 코터는 모듈형 디자인을 채택하였으며, 진공 챔버, 진공 펌프 그룹, 제어 전원 공급 장치가 분리되어 사용자의 실제 요구에 따라 조정이 가능합니다.

2. 3개 타겟 RF 마그네트론 스퍼터링 코터는 사용자의 실제 요구에 따라 전원을 선택할 수 있습니다. 하나의 전원 공급기로 여러 개의 타겟 건을 제어할 수 있고, 여러 개의 전원 공급기로 단일 타겟 건을 제어할 수 있습니다(선택 사항).

3. 3개 타겟 RF 마그네트론 스퍼터링 코터는 글러브 박스 내에서 실험 작업에 사용될 수 있으며, 다양한 유형의 쉽게 산화되는 타겟 물질을 코팅 실험에 교체할 ​​수 있습니다.


콤팩트 플라즈마 스퍼터링 코터의 기술적 매개변수:

제품 이름비지비(VGB)-600-3HD 컴팩트 플라스마 스퍼터링 코터
제품 모델비지비(VGB)-600-3HD
주요 매개변수

3타겟 마그네트론 스퍼터링 부분:

1. 전원 전압 : 220V 50Hz.

2. 총 전력: 2.5KW.

3. 최대 진공도 : < E-6mbar (당사 기계식 펌프 장비와 함께 사용하는 경우 E-3mbar까지 도달 가능).

4. 작동 온도: RT-500℃, 정확도 ±1℃ (온도는 실제 필요에 따라 증가할 수 있음).

5. 타겟포의 수 : 3개.

6. 타깃총 냉각 방식 : 수냉.

7. 타겟 크기: Ø2″, 두께 0.1mm-5mm(두께는 타겟 재료에 따라 다름).

8. 스퍼터링 전력 : 300W(RF)/500W(직류).

9. 샘플 캐리어: Ø140mm.

10. 샘플 캐리어 속도: 1rpm-20rpm 내에서 조정 가능.

11. 보호가스 : 아르, N2와 같은 불활성가스.

12. 유입 가스 경로: 질량 유량계는 2개의 유입 경로를 제어하며, 한 흐름은 100 SCCM이고 다른 흐름은 200 SCCM입니다.

G러브박스 파트:

1. 전원 공급 : 단상 AC110V-220V 50Hz/60Hz.

2. 쉘 소재 : 304 스테인리스 스틸.

3. 글러브 박스 챔버: 1220mm×760mm×900mm.

4. 전단계 챔버: 전단계 챔버는 2개이며, 큰 전단계 챔버는 Ø360mm×600mm이고 작은 전단계 챔버는 Ø150mm×300mm입니다.

5. 챔버 환경 : 수분 함량 <1ppm (20℃, 1atm), 산소 함량 <1ppm (20℃, 1atm).

6. 작동 가스 : N2, 아르, He와 같은 불활성 가스.

7. 제어 가스: 압축 공기 또는 불활성 가스.

8. 환원가스: 작동가스와 H2의 혼합물(정화 시스템이 물 제거 기능만 있는 경우 환원가스는 작동가스와 동일함).

9. 가스 정화 시스템: 독일 바스프 탈산소화 재료, 미국 유오피(주) 흡수성 재료, 정화 시스템 재생 프로세스 자동 제어, 자동 탈수 및 탈산소화 기능으로 가스 순도를 수분 <1ppm, 산소 <1ppm으로 장기간 유지할 수 있습니다.

10. 압력 제어 시스템: 캐비티 공기 압력은 PLC 터치 스크린으로 자동으로 제어할 수 있으며 제어 정확도는 ±1Pa이며 풋 스위치로 수동으로 제어할 수도 있습니다.

11. 필터 시스템: 필터는 입구 및 출구 끝에 설치되며 여과 정확도는 0.3μm입니다.

12. 제어 시스템: 지멘스 컬러 터치 스크린(6인치), PLC 제어 시스템, 중국어와 영어 이중 언어 전환 가능;

수질 프로브는 미국 지.에.지. 브랜드를 채택하였으며, 0~1000ppm 터치 스크린 디스플레이, 정확도는 0.1ppm입니다.

산소 송신기는 미국 아이다 브랜드를 채택하였으며, 0-1000ppm 터치스크린 디스플레이, 정확도는 0.1ppm입니다.

압력 센서는 미국 세트라 브랜드를 채택하고 -2500-2500Pa 터치 스크린 디스플레이, 정확도는 ±1Pa입니다.

13. 진공 펌프: 영국 에드워즈 브랜드, 펌핑 속도 8.4m3/h-12m3/h.

14. 장갑 : 미국 북쪽 브랜드 부틸 합성고무.

15. 조명 시스템 : 필립스 브랜드 형광등.

제품 사양

3타겟 마그네트론 스퍼터링 부분: 950mm×460mm×810mm.

글러브 박스 부분 : 2300mm×1500mm×1900mm.


3가지 타겟 RF 마그네트론 스퍼터링 코터의 품질 약속:

당사는 제공하는 콤팩트 플라즈마 스퍼터링 코터가 새롭고 사용되지 않은 제품이며, 계약서에 명시된 품질, 사양 및 성능 요구 사항을 충분히 충족하고, 글러브 박스가 장착된 당사의 박막 배터리 준비 시스템이 올바른 설치, 올바른 사용 및 유지 관리 조건에서 그리고 서비스 수명 내에서 정상적으로 작동할 수 있음을 보증합니다.


보증:

1년 한정 보증, 평생 지원(부적절한 보관 조건으로 인해 녹이 슬은 부품 제외)


우리의 서비스:

당사의 제품은 뛰어난 성능, 안정적인 품질, 장기 내구성으로 많은 고객에게 인정받고 있습니다. 당사는 고객에게 제품 선택, 설치 및 시운전, 운영 교육과 같은 전체 범위의 서비스 지원을 제공할 수 있는 전문 기술 팀을 보유하고 있습니다. 사용 중에 어떤 문제가 발생하더라도 당사는 생산 라인이 효율적이고 안정적으로 운영될 수 있도록 적시에 효과적인 솔루션을 제공하기 위해 노력할 것입니다.

Three targets RF magnetron sputtering coater


우리에 대하여:

얼마 전, 우리 지구 싱가포르는 아시아 광자공학 엑스포(원숭이 2025)에 참여하여 연삭 및 연마 기계, 코팅 기계 및 기타 제품을 전시했습니다. 제품에 대해 자세히 알게 된 후 많은 고객이 장비를 칭찬하고 우리와 협력하고 싶다는 의사를 표명했습니다.

Thin film battery preparation system with glove box

Compact plasma sputtering coater

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