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소형 DC 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 머신

1. 이 실험실용 DC 마그네트론 스퍼터링 코터는 금속 코팅 요구 사항에 맞게 특별히 설계되었으며 다양한 금속 재료에 사용할 수 있습니다.
2. 이 실험실용 DC 마그네트론 스퍼터링 코터의 샘플 스테이지는 높이 조절이 가능하므로 다양한 크기의 샘플을 수용할 수 있습니다.
3. 이 실험실용 DC 마그네트론 스퍼터링 코터는 고진공 장치와 함께 사용하여 더욱 높은 진공 수준을 달성할 수 있습니다.

  • Shenyang Kejing
  • 중국 선양
  • 10일 근무
  • 50세트
  • 정보

실험실용 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 장비 소개:

비티씨-16-D 마그네트론 스퍼터링 코터는 2인치 타겟 헤드 직경과 조절 가능한 샘플 스테이지를 갖춘 소형 DC 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 코터입니다. 이 소형 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 장비는 주로 금속 박막 생산용으로 설계되었습니다. 컴팩트한 크기와 높은 비용 효율성으로 다양한 금속 박막에 이상적인 코팅 시스템입니다.

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine

실험실 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 장비의 주요 특징:

· 마그네트론 스퍼터링 코터는 소형이고, 조작이 간편하며, 사용하기 쉽습니다.

· 소형 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 장비는 작은 자기 제어 타겟 헤드를 갖추고 있으며 금, 은, 백금 등의 금속을 코팅할 수 있습니다.


소형 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 장비의 기술적 매개변수:

제품명비티씨-16-D 단일 타겟 소형 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 장비
모델비티씨-16-D
기본 사양

1. 소형 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 장비의 입력 전원: 220V AC 50/60Hz

2. 실험실 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 장비의 전력: <1000W

3. 실험실 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 장비의 출력 전압: DC 500V

4. 스퍼터링 전류: 0-80mA, 조정 가능

5. 스퍼터링 시간: 0~120초, 조정 가능

스퍼터링 챔버

1. 석영 챔버 치수: 오디 166mm x ID 150mm x 높이 150mm

2. 씰 : 불소고무 O-링

3. 타겟의 사전 스퍼터링을 위해 플랜지 커버에 수동 셔터가 설치되어 있습니다. 6.35mm Ø 압축 피팅은 공기 유입관을 연결하는 공기 유입구 역할을 합니다. 수동 공기 배출 밸브는 석영 챔버에 공기를 채우는 데 사용됩니다.

4. 플라스마를 보호하기 위해 석영 챔버 전체를 스테인리스 스틸 메쉬로 덮었습니다.

Small magnetron plasma sputtering instrument

5. 챔버로 들어가는 작동 가스의 흐름은 하우징 오른쪽에 있는 마이크로 정밀 제어 밸브를 조정하여 제어되며, 이를 통해 챔버 내부의 진공 수준이 조정됩니다.

6. 스퍼터링 전류는 하우징 오른쪽에 있는 전위차계를 조정하여 제어됩니다.

Magnetron Sputtering CoaterLab DC Magnetron Sputtering Coater Machine

타겟 헤드 및 타겟 소재

1. 수냉식 냉각 장치가 없는 2인치 마그네트론 스퍼터링 타겟 헤드. 마그네트론 스퍼터링 타겟 헤드의 최대 작동 온도는 80°C입니다. 80°C를 초과하면 마그네트론 스퍼터링 타겟 헤드가 자성을 잃어 작동할 수 없게 됩니다.

2. 스퍼터링 시간 : 1초에서 120초까지 조절 가능

3. 표준 구리 타겟 포함

4. 타겟 크기 요구 사항: φ2" x (0.5-5) mm 두께

5. 오, 애그, 구리 및 기타 금속의 스퍼터링에 적합합니다(당사에서 구매 가능).

실험실 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 장비의 샘플 단계

1. 높이 조절이 가능한 샘플 스테이지, 샘플 스테이지와 타겟 사이의 거리는 25~70mm로 조절 가능합니다.

2. 샘플 스테이지 크기: φ2"

3. 최대 가열 온도가 500°C인 선택적 샘플 단계 가열.

Small magnetron plasma sputtering instrumentMagnetron Sputtering Coater

피라니 진공 게이지

1. 측정 범위: 1 × 10-4 엠바 ~ 1000 엠바 (1 × 10-4 ~ 750 토르)

2. 정확도: 1000mbar ~ 20mbar(판독값의 30%)

20~0.002mbar(판독값의 2%)

3. 반복성: 20~0.002mbar(0.000~0.002mbar) 2%)

4. 작동 습도: 30°C에서 ≤80%, 40°C에서 ≤50%, 결로 현상 없음

5. 작동 온도: 5°C-60°C

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine

박막 두께 측정기(옵션)

1. 정밀한 석영 진동 필름 두께 측정기가 장비에 설치되어 0.10Å의 분해능으로 필름 두께를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다.

2. 주도의 디스플레이는 필름 두께 데이터의 표시와 입력을 모두 제공합니다.

Small magnetron plasma sputtering instrumentMagnetron Sputtering Coater

진공 시스템(선택 사항)

1. 모델명: VRD-8

2. 펌핑 속도: 2.2 L/s

3. 모터 출력: 370W

4. 최대 압력 : 5 × 10-1 아빠 (무부하)

5. 실제 압력: ≤ 5 아빠 (냉각 조건에서 20분간 기계적 펌핑)

Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine

6. 더 높은 진공 수준(10-5톤 이상)의 경우 국산 또는 수입 고진공 장비를 사용할 수 있습니다.

Small magnetron plasma sputtering instrument

실험실 DC 마그네트론 스퍼터링 코터 장비 사양

크기: 500mm × 350mm × 550mm (길이 × 너비 × 높이)

무게 : 약 20kg (진공펌프 및 수냉장치 제외)

Magnetron Sputtering Coater

장비 사용 요구 사항

1. 원하는 필름 두께를 얻으려면 여러 번의 스퍼터링 사이클이 필요합니다.

2. 스퍼터링 전에 스퍼터링 헤드, 타겟, 기판 및 샘플 스테이지가 깨끗한지 확인하세요.

3. 필름과 기판 사이의 접착력을 높이기 위해 스퍼터링 전에 기판 표면을 깨끗이 청소하세요.

보증 기간

1년 보증 및 평생 기술 지원.

특별 참고 사항:

1. 가열소자, 석영관, 시료용 도가니 등의 소모품은 보증 대상이 아닙니다.

2. 부식성 및 산성 가스 사용으로 인한 손상은 보증 대상이 아닙니다.

지침

· 챔버 내부의 압력은 0.02MPa(상대압력)을 초과해서는 안 됩니다.

· 가스 실린더의 내부 압력이 비교적 높으므로 석영관에 가스를 주입할 때 실린더에 감압 밸브를 설치해야 합니다. 안전을 위해 0.02MPa 이하로 작동할 것을 권장합니다. 정확도와 안전성을 높이기 위해 0.01MPa~0.1MPa 범위의 당사 감압 밸브를 구매하실 것을 권장합니다.

· 당사는 인화성, 폭발성 또는 독성 가스의 사용을 권장하지 않습니다. 공정에 인화성, 폭발성 또는 독성 가스 사용이 필요한 경우, 적절한 보호 및 방폭 조치를 취하십시오. 당사는 인화성, 폭발성 또는 독성 가스 사용으로 인해 발생하는 문제에 대해 책임을 지지 않습니다.

규정 준수추가 비용으로 세 인증, UL 또는 CSA 인증을 받을 수 있습니다.


회사 소개:

고객이 당사의 제품을 직접 사용하기 위해 구매하시면 정밀성, 신뢰성, 편의성, 효율성을 누리실 수 있습니다.


저희는 맞춤형 서비스를 제공합니다. 저희 웹사이트에서 다양한 사양의 다양한 모델을 찾아보실 수 있어 프로젝트에 가장 적합한 장비를 선택하실 수 있습니다. 또는, 장비 추천을 원하시면 저희에게 문의하시면 만족스러운 답변을 받으실 수 있습니다.


당사의 목표는 오늘날의 높은 효율성과 지속 가능한 개발에 대한 요구를 충족하는 지능적이고 에너지 효율적이며 환경 친화적인 장비를 고객에게 제공하는 것입니다.


구매하신 후에는 애프터서비스를 제공해 드립니다. 예상치 못한 고장에 대해서는 전적으로 책임을 집니다. 또한 사용 중 궁금한 점이나 궁금한 점이 있으시면 언제든지 문의해 주세요.


Lab DC Magnetron Sputtering Coater Machine

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