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구형 펄스 레이저 증착 시스템

브랜드 Shenyang Kejing

제품 산지 중국 선양

납품 가격 영업일 기준 44일

공급 능력 50세트

본 시스템은 구형펄스레이저증착시스템(PLD)을 위한 연구개발 장비입니다. 펄스 레이저 증착 기술은 널리 사용되고 있으며 금속, 반도체, 산화물, 질화물, 탄화물, 붕화물, 규화물, 황화물, 불화물 등 다양한 물질의 박막을 제조하는 데 사용할 수 있습니다. 다이아몬드나 입방질화막과 같이 합성이 어려운 일부 재료막을 준비하는 데에도 사용됩니다.

구형 펄스 레이저 증착 시스템


기술적 매개변수

상품명

구형 펄스 레이저 증착 시스템(PLD)

설치 조건

1. 주위 온도: 10℃~35℃

2. 상대 습도: 75% 이하

3. 전원 공급 장치: 220V, 단상, 50±0.5Hz

4. 장비 전력 : 4KW 미만

5. 급수 : 수압 0.2MPa~0.4MPa, 수온 15℃~25℃,

6. 장비 주변 환경은 깨끗하고, 공기가 깨끗해야 하며, 전기용품이나 기타 금속 표면을 부식시키거나 금속간 전도를 일으킬 수 있는 먼지나 가스가 없어야 합니다.

주요 매개변수

(사양)

1. 시스템은 구형 구조와 수동 전면 도어를 채택합니다.

2. 진공 챔버 구성 요소 및 액세서리는 모두 고품질 스테인레스 스틸(304), 아르곤 아크 용접으로 만들어졌으며 표면은 유리 분사 및 전기 화학적 연마 및 부동태 처리로 처리됩니다.

3. 진공 챔버에는 육안 관찰 창이 장착되어 있습니다. 진공 챔버의 유효 크기는 Φ300mm입니다.

4. 진공도 한계: ≤6.67×10-5아빠(베이킹 및 탈기 후 600L/S 분자 펌프를 사용하여 공기를 펌핑하고 앞 단계에 8L/S를 사용);

시스템 진공 누출 감지 누출율: ≤5.0×10-7아빠.L/S; 

시스템은 대기에서 8.0×10로 공기를 펌핑하기 시작합니다.-4Pa는 40분 안에 도착할 수 있습니다. 

펌프가 12시간 동안 정지된 후의 진공도: 20Pa 이하

5. 샘플 스테이지: 샘플 크기는 Φ40mm, 회전 속도는 1-20RPM, 기판 스테이지와 회전 대상 사이의 거리는 40-90mm입니다.

6. 샘플의 최대 가열 온도: 800℃, 온도 조절 정확도: ±1℃, 온도 조절을 위해 온도 조절 미터가 사용됩니다.

7. 4 스테이션 회전 타겟: 각 타겟 위치는 Φ40mm이고 배플/셔터에는 하나의 타겟 위치만 노출되며 레이저 빔은 상단 타겟 위치에 도달해야 하며 회전 타겟에는 회전 및 자동 회전 기능이 있습니다.

8. 베이킹, 조명 및 수압 경보 장치가 진공 챔버에 설치됩니다.

9. MFC 단방향 질량 유량계(흡기 제어용): 0-100sccm



보증

    평생 지원으로 1년 제한(부적절한 보관 조건으로 인해 녹슨 부품 제외)



물류 센터

Laser Deposition System


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