- 집
- >
- 제품
- >
- 자동 스캐닝 시스템을 갖춘 대기 플라즈마 빔
- >
자동 스캐닝 시스템을 갖춘 대기 플라즈마 빔
GSL-1100X-피제이에프-A 플라즈마 표면 처리 장비는 표면 처리를 위한 소형 대기압 플라즈마 제트 흐름 시스템으로, 주로 고주파 발생기와 플라즈마 빔 헤드로 구성됩니다. 제트 흐름 플라즈마 빔은 저온 및 비진공 조건에서 재료(예: 단일 웨이퍼, 광학 부품, 플라스틱 등)의 표면을 활성화하고 세척할 수 있으며, 세척 속도가 빠릅니다.
- Shenyang Kejing
- 중국 선양
- 22일 근무
- 50세트
- 정보
제품 소개
GSL-1100X-피제이에프-A 플라즈마 표면 처리 시스템은 RF 발생기와 이온 빔 헤드로 구성된 소형 대기압 플라즈마 제트 장치입니다. 방출된 이온 빔은 웨이퍼, 광학 부품, 플라스틱 등의 재료 표면을 진공 환경 없이도 저온에서 빠르고 효과적으로 활성화하고 세정합니다. 따라서 고품질 에피택셜 필름 성장 또는 광학 코팅 증착 전 표면 전처리에 이상적인 도구입니다.
주요 특징
1. 간단한 조작으로 재료 표면을 고속으로 가공하고 안전하고 신뢰할 수 있습니다.
2. 진공 및 챔버 환경이 필요 없습니다.
3. 작고 실용적이며 가격이 저렴합니다.
4. 구조가 컴팩트하고 무게가 가볍습니다.
5. 세 인증.
기술적 매개변수
제품명 | GSL-1100X-피제이에프-A 플라즈마 표면 처리 장비 |
제품 모델 | GSL-1100X-피제이에프-A |
주요 매개변수 (사양) | 기계의 주요 부분 1. 전원 공급 : 220V, 50Hz 2. XY 축: * 제어방식 : 패널제어 * 이동거리 : 1~150mm, 속도 1~500mm/s Z축: * 제어방식 : 수동제어 * 이동거리 : 1~50mm 3. 청소 간격 : 1~100mm 4. 외형 치수 : 550mm(폭) × 650mm(깊이) × 920mm(높이) 플라즈마 컨트롤러 부분 1. 입력 전원 : AC220V, 체육. 50Hz 2. 입력 전압 조절 범위: 190-250V 3. 본체 무게 : 17kg 4. 작동 주변 온도: <42℃ 5. 상대 습도: ≤40℃RH 6. 전압 조정 범위 : 240-300V 7. 입력 가스 소스 압력 ≥4 술집 8. 최대 전력: 1000VA 9. 주파수 : 20-23kHz 10. 플라즈마 작동 압력: 0.5-0.7bar(조정 가능) 11. 압력 보호 제어 - 최저점: 0.4bar, 최고점: 0.8bar 12. 노즐 가공 폭 - 원형 노즐 : 10~12mm, 플랫 노즐 : 15~18mm |
제품 치수 | 13. 제품 사양 |
보증
1년 제한 보증, 평생 지원(부적절한 보관 조건으로 인한 녹슨 부품 제외)
기호 논리학
