- 집
- >
- 제품
- >
- 대기 플라즈마 제트 흐름 시스템(플라즈마 펜)
- >
대기 플라즈마 제트 흐름 시스템(플라즈마 펜)
GSL-1100X-피제이에프-(A) 플라즈마 표면 처리 장비는 표면 처리를 위한 소형 대기압 플라즈마 제트 흐름 시스템으로, 주로 고주파 발생기와 플라즈마 빔 헤드로 구성됩니다. 제트 흐름 플라즈마 빔은 저온 및 비진공 조건에서 재료(예: 단일 웨이퍼, 광학 부품, 플라스틱 등)의 표면을 활성화하고 세척할 수 있습니다.
- Shenyang Kejing
- 중국 선양
- 10일 근무
- 50세트
- 정보
제품 소개
GSL-1100X-피제이에프-(A) 플라즈마 표면 처리 시스템은 RF 발생기와 플라즈마 제트 헤드로 구성된 소형 대기압 플라즈마 제트 장치입니다. 방출된 플라즈마 빔은 웨이퍼, 광학 부품, 플라스틱 등의 재료 표면을 저온 및 비진공 조건에서 활성화하고 세정합니다. 뛰어난 표면 세정력으로 신속한 세정을 제공하여 고품질 에피택셜 필름 성장을 위한 효과적인 전처리를 가능하게 하고 광학 코팅 성능을 크게 향상시킵니다.
이 휴대용 부품은 가볍고 휴대성이 뛰어나 야외 또는 현장에서 사용하기 편리합니다. 간단한 조작으로 재료 표면의 원하는 부위를 손쉽게 정밀하게 세척할 수 있습니다. 이 소형 플라즈마 표면 처리 시스템은 진공 챔버 없이도 빠르고 효율적인 세척을 제공하여 다양한 적용 환경에서 탁월한 유연성을 제공합니다.
주요 특징
1. 진공이나 챔버 환경이 필요 없이 재료 표면의 고속 가공이 가능합니다.
2. 휴대가 간편한 디자인으로 현장에서 저렴한 비용으로 사용이 가능합니다.
3. 구조가 컴팩트하고 무게가 가볍습니다.
4. 조작이 간편하고 안전하고 신뢰할 수 있습니다.
5. 세 인증.
기술적 매개변수
제품명 | GSL-1100X-피제이에프-(A) 플라즈마 표면 처리 장비 |
제품 모델 | GSL-1100X-피제이에프-(A) |
주요 매개변수 (사양) | 1. 입력 전원 : 110V/220V 50Hz/60Hz <1000W 2. 출력 주파수 : 20kHz-23kHz 3. 입력 가스 압력: 0.275MPa(최소), 선택 사항: 공기, 질소, 아르곤, 혼합 가스(단, 가연성 또는 폭발성 가스는 불가) 4. 플라즈마 작동 압력: 0.048MPa-0.068MPa 5. 플라즈마 빔 헤드: 1개의 플라즈마 빔 헤드, 원형 헤드 10mm-12mm 또는 직사각형 헤드 15mm-18mm 6. 작업환경 : 온도 <42℃, 습도 ≤40%RH, 가연성 가스 없음 |
제품 크기 및 무게 | 치수: 500mm×380mm×210mm 무게: 10kg |
보증
1년 제한 보증, 평생 지원(부적절한 보관 조건으로 인한 녹슨 부품 제외)
기호 논리학
