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듀얼 헤드 고진공 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 코터

브랜드 Shenyang Kejing

제품 산지 중국 선양

납품 가격 22 영업일

공급 능력 50세트

VTC-600-2HD 듀얼-머리 마그네트론 스퍼터링 Coater는 당사에서 새롭게 개발한 고진공 코팅 장비로서 단층 또는 다층 강유전체막, 전도성막, 합금막, 반도체막, 세라믹막, 유전체 필름, 광학 필름, 산화 필름, 경질 필름, PTFE 필름 등 VTC-600-2HD 듀얼 헤드 마그네트론 스퍼터링 코터에는 2개의 타겟 건과 2개의 전원 공급 장치, 비전도성 스퍼터 코팅을 위한 1개의 RF 전원 공급 장치가 장착되어 있습니다. 재료 및 전도성 재료의 스퍼터 코팅을 위한 DC 전원 공급 장치 1개.

듀얼 헤드 고진공 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 코터


주요 특징

1. 두 개의 타겟 건이 장착되어 있으며, 하나의 RF 전원 공급 장치는 비전도성 재료의 스퍼터 코팅에 사용되고, 하나의 DC 전원 공급 장치는 전도성 재료의 스퍼터 코팅에 사용됩니다.

2. 다양한 용도로 다양한 박막을 제조할 수 있습니다.

3. 크기가 작고 조작이 쉽습니다.



기술적 매개변수

상품명

VTC-600-2HD 듀얼 헤드 마그네트론 스퍼터링 코터

제품 모델

VTC-600-2HD

설치 조건

본 장비는 고도 1000m 이하, 온도 25℃±15℃, 습도 55%Rh±10%Rh에서 사용해야 합니다.

1. 물: 장비에는 자체 순환식 물 냉각기가 장착되어 있습니다(순수 또는 탈이온수 충전).

2. 전기 : AC220V 50Hz, 접지가 양호해야합니다.

3. 가스: 장비 챔버에는 아르곤 가스(순도 99.99% 이상)가 채워져 있어야 하며, 아르곤 가스 실린더(Ø6mm 이중 페럴 조인트 포함)와 감압 밸브는 사용자가 준비해야 합니다.

4. 작업대: 크기 1500mm×600mm×700mm, 200kg 이상 베어링

5. 환기 장치: 필요

주요 매개변수

(사양)

1. 전원 전압 : 220V 50Hz

2. 전력 : 900W

3. 챔버의 내경: Ø300mm

4. 진공도 한계 : 9.0×10-4Pa

5. 샘플 단계의 가열 온도: RT-500℃, 정확도 ±1℃(온도는 실제 필요에 따라 증가될 수 있습니다.)

6. 표적 총의 수: 2 PC (옵션에 대한 다른 수량)

7. 표적총의 냉각방식 : 수냉식

8. 대상 재료의 크기: Ø2″, 두께 0.1-5mm(다른 대상 재료로 인해 두께가 다름)

9. DC 스퍼터링 전력: 500W; RF 스퍼터링 전력: 300W(대상 전원 공급 장치 유형은 선택 사항이며, DC 전원 공급 장치 2개 또는 RF 전원 공급 장치 2개를 선택하거나 DC 전원 공급 장치 1개와 RF 전원 공급 장치 1개를 선택합니다.)

10. 샘플 스테이지: Ø140mm, 고객 요구 사항에 따라 옵션 바이어스 전압 기능을 설치하여 더 높은 코팅 품질을 얻을 수 있습니다.

11. 샘플 스테이지 속도: 1rpm-20rpm 내에서 조정 가능

12. 작동 가스: 아르곤 및 기타 불활성 가스

13. 흡입 공기 경로: 질량 유량계는 2개의 공기 흡입 경로를 제어합니다. 하나는 100SCCM이고 다른 하나는 200SCCM입니다.

제품 크기 및 무게

1. 주요 기계 치수: 500mm×560mm×660mm

2. 전반적인 차원: 1300mm×660mm×1200mm

3. 진공 챔버 치수: Φ300×300mm

4. 무게 : 160kg

plasma sputtering coater

표준 액세서리

1. DC 전력 제어 시스템: 1 세트

2. RF 전력 제어 시스템: 1 세트

3. 필름 두께 모니터 시스템: 1 세트

4. 분자 펌프(독일에서 수입): 1개

5. 워터 쿨러: 1개

6.폴리에스테르 PU 파이프(Ø6mm) : 4m

옵션 액세서리

금, 인듐, 은, 백금 등 다양한 타겟재료



보증

    평생 지원으로 1년 제한(부적절한 보관 조건으로 인해 녹슨 부품 제외)



물류 센터

Magnetron Plasma Sputtering Coater


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