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단일 헤드 고진공 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 코터

브랜드 Shenyang Kejing

제품 산지 중국 선양

납품 가격 22 영업일

공급 능력 50세트

VTC-600-1HD 하나의-머리 마그네트론 스퍼터링 Coater는 당사에서 새롭게 개발한 고진공 코팅 장비로서 단층 또는 다층 강유전체막, 전도성막, 합금막, 반도체막, 세라믹막, 유전체 필름, 광학 필름, 산화막, 하드 필름, PTFE 필름 등
VTC-600-1HD 단일 헤드 마그네트론 스퍼터링 코터에는 강한 자기 타겟이나 약한 자기 타겟을 선택하는 하나의 타겟 건이 장착되어 있습니다.

단일 헤드 고진공 마그네트론 플라즈마 스퍼터링 코터

주요 특징

1. 하나의 타겟 건이 장착되어 있으며 비전도성 재료의 스퍼터 코팅을 위해 하나의 RF 전원 공급 장치를 선택하거나 전도성 재료의 스퍼터 코팅에 사용되는 하나의 DC 전원 공급 장치를 선택합니다.

2. 다양한 용도로 다양한 박막을 제조할 수 있습니다.

3. 크기가 작고 조작이 쉽습니다.



기술적 매개변수

상품명

VTC-600-1HD 단일 헤드 마그네트론 스퍼터링 코터

제품 모델

VTC-600-1HD

설치 조건

본 장비는 고도 1000m 이하, 온도 25℃±15℃, 습도 55%Rh±10%Rh에서 사용해야 합니다.

1. 물: 장비에는 자체 순환식 물 냉각기가 장착되어 있습니다(순수 또는 탈이온수 충전).

2. 전기 : AC220V 50Hz, 접지가 양호해야합니다.

3. 가스: 장비 챔버에는 아르곤 가스(순도 99.99% 이상)가 채워져 있어야 하며, 아르곤 가스 실린더(Ø6mm 이중 페럴 조인트 포함)와 감압 밸브는 사용자가 준비해야 합니다.

4. 작업대: 크기 1500mm×600mm×700mm, 200kg 이상 베어링

5. 환기 장치: 필요

주요 매개변수

(사양)

1. 전원 전압 : 220V 50Hz

2. 전력 : <1KW (진공 펌프 제외)

3. 챔버의 내경: Ø300mm

4. 진공도 한계 : 9.0×10-4Pa

5. 샘플 단계의 가열 온도: RT-500℃, 정확도 ±1℃(온도는 실제 필요에 따라 증가될 수 있습니다.)

6. 표적 총의 수: 1 PC (옵션에 대한 다른 수량)

7. 표적총의 냉각방식 : 수냉식

8. 대상 재료의 크기: Ø2″, 두께 0.1-5mm(다른 대상 재료로 인해 두께가 다름)

9. DC 스퍼터링 전력: 500W; RF 스퍼터링 전력: 300W(대상 전원 공급 장치 유형은 선택 사항입니다: DC 전원 공급 장치 1개 또는 RF 전원 공급 장치 1개)

10. 샘플 스테이지: Ø140mm, 고객 요구 사항에 따라 옵션 바이어스 전압 기능을 설치하여 더 높은 코팅 품질을 얻을 수 있습니다.

11. 샘플 스테이지 속도: 1rpm-20rpm 내에서 조정 가능

12. 작동 가스: 아르곤 및 기타 불활성 가스

13. 흡입 공기 경로: 질량 유량계는 2개의 공기 흡입 경로를 제어합니다. 하나는 100SCCM이고 다른 하나는 200SCCM입니다.

제품 크기 및 무게

1. 주요 기계 치수: 500mm×560mm×660mm

2. 전반적인 차원: 1300mm×660mm×1200mm

3. 무게 : 160kg

4. 진공 챔버 치수: Φ300×300mm

표준 액세서리

1. DC 전원 제어 시스템: 1 세트(옵션)

2. RF 전력 제어 시스템: 1 세트(옵션)

3. 워터 쿨러: 1개

4. 폴리에스테르 PU 파이프(Ø6mm) : 4m

옵션 액세서리

1. 금, 인듐, 은, 백금 등 다양한 타겟재료

2. 필름 두께 모니터링 시스템

3. 분자펌프(독일에서 수입)



만세    

평생 지원으로 1년 제한(부적절한 보관 조건으로 인해 녹슨 부품 제외)



물류 센터

Plasma Sputtering Coater


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