고진공 마그네트론 스퍼터링 장비

마그네트론 스퍼터링 장비 소개:

비티씨-600G 고진공 마그네트론 스퍼터링 코터는 새롭게 독자 개발한 코팅 장비로, 단층 또는 다층 강유전체막, 전도성막, 합금막, 반도체막, 세라믹막, 유전체막, 광학막, 산화막, 경질막, 폴리테트라플루오로에틸렌막 등의 증착에 사용할 수 있습니다. 비티씨-600G 마그네트론 스퍼터링 장비는 여러 개의 타겟 건을 장착할 수 있으며, RF 전원 공급 장치는 비전도성 타겟 재료의 스퍼터링 코팅에, DC 전원 공급 장치는 전도성 재료의 스퍼터링 코팅에 사용됩니다. 마그네트론 스퍼터링 장비는 유사 장비에 비해 널리 사용될 뿐만 아니라 소형이고 조작이 간편하다는 장점이 있습니다. 특히 고체 전해질 및 OLED 관련 실험실 연구에 적합한 재료 박막의 실험실 증착에 이상적인 장비입니다.

마그네트론 스퍼터링 장비의 주요 특징:

·진공 마그네트론 스퍼터링 장비는 여러 개의 타겟 건을 장착할 수 있으며, 매칭되는 RF 전원 공급 장치는 비전도성 타겟 재료의 스퍼터링 코팅에 사용되고, 매칭되는 DC 전원 공급 장치는 전도성 재료의 스퍼터링 코팅에 사용됩니다(타겟 건은 고객 요구에 따라 자유롭게 교체 가능).

·진공 마그네트론 스퍼터링 장비는 다양한 박막을 제조할 수 있으며 널리 사용됩니다.

·진공 마그네트론 스퍼터링 장비는 크기가 작고 조작이 간편합니다.

·전체 기계는 모듈형 설계를 채택하였으며, 진공실, 진공펌프 그룹, 제어전원 공급장치는 분리형 설계로 사용자의 실제 요구에 맞게 조정할 수 있습니다.

· 사용자의 실제 필요에 따라 전원 공급 장치를 선택할 수 있습니다. 하나의 전원 공급 장치로 여러 개의 표적 총을 제어할 수도 있고, 여러 개의 전원 공급 장치로 하나의 표적 총을 제어할 수도 있습니다.

진공 마그네트론 스퍼터링 장비의 기술적 매개변수:

제품명	비티씨-600G 고진공 마그네트론 스퍼터링 장비
제품 모델	비티씨-600G
주요 매개변수	1. 구조: 데스크탑 전면 도어 구조, 후면 배기 시스템. 2. 최대 진공도: 6.0×10-5잘. 3. 누설률: 미터 1h≤0.5Pa. 4. 배기시간은 대기압에서 5.0까지 약 20분 정도입니다.×10-3. 5. 진공펌프 그룹: 기계식 펌프 + 분자 펌프. 6. 샘플 스테이지: φ140, 실온 -500℃, 정확도 ±1℃ (실제 필요에 따라 온도 조절 가능), 회전 속도 5rpm~20rpm. 고객 요구에 따라 바이어스 기능을 추가하여 더욱 고품질의 코팅을 구현할 수 있습니다. 7. 가스 충전 시스템: 2개의 질량 흐름(각각 아르곤/질소). 8. 타겟 헤드와 샘플 스테이지의 중심축 사이의 각도는 34°입니다. 9. 타겟 헤드의 개수: 3개(서로 120°). 10. 타깃총 냉각 방식 : 수냉. 11. 대상 소재 크기: φ2″, 두께 0.1-5mm (두께는 대상 소재에 따라 다름).
	12. 제품 사양:       · 전체 기계 크기: 700mm×852mm×1529mm;

마그네트론 스퍼터링 장비의 옵션 액세서리:

보증:

1년 제한 보증, 평생 지원(부적절한 보관 조건으로 인한 녹슨 부품 제외)

기호 논리학:

회사 소개：

저희는 코팅 장비의 연구 개발 및 생산에 주력하는 첨단 기술 기업으로, 업계를 선도하고 있습니다. 모든 제품은 설계자에 의해 신중하게 설계되고 엄격한 테스트를 거쳤으며, 높은 수준의 장비 성능과 정확도를 자랑합니다. 저희는 단순히 제품 자체에만 집중하는 것이 아니라 기술 혁신과 고객 관계에도 주의를 기울이며, 전 세계 고객에게 최고 수준의 실험 장비를 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다.