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데스크탑 무진공 스핀 코터
VTC-50A Spin Coater는 모터부와 제어부에 독립된 전원 공급 시스템을 채택하고 속도 제어 시스템은 제어에 대한 간섭 방지가 높은 단일 칩 마이크로 컴퓨터를 채택하여 회전 속도가 1000 범위에서 매우 빠르고 안정적입니다. -8000RPM. 코터는 작동 중 두 단계, 즉 저속 시간의 T1 단계와 고속 시간의 T2 단계를 갖습니다.
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스핀 코터(8K rpm, 4" 웨이퍼 최대), 3개의 진공 척 포함
VTC-100 진공 회전 Coater에는 다양한 크기의 진공척(표준용) 3개가 장착되어 있으며, 시료의 크기에 따라 다양한 진공척을 장착할 수 있습니다. 작업 중에 VTC-100 진공 스핀 코터는 진공 플레이트 흡착 방식을 사용하여 샘플을 샘플 플레이트에 고정합니다. 장비는 속도를 제어하기 위해 2단계 프로그램을 사용합니다.
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컴팩트 스핀코터 (8K rpm, 4" 웨이퍼 맥스.) 로우 척 설계
VTC-100B 진공 스핀 코터는 VTC-100 진공 스핀 코터의 업그레이드 버전입니다. 상부커버는 접혀서 열고 닫을 수 있으며 안전잠금장치가 장착되어 있습니다. 동시에 작업자의 안전을 더 잘 보장하기 위해 오픈 커버 보호 기능이 있습니다.
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프로그래밍 가능한 진공 척 스핀 코팅기(500-6000rpm, 최대 8")
비티씨씨-200 진공 스핀 코터는 간단한 조작, 편리한 청소 및 작은 크기의 장점을 가지고 있습니다. 주로 대학 실험실 및 과학 연구 기관의 필름 성장 과정에 사용됩니다. 작업 중 비티씨씨-200 진공 스핀 코터는 진공 플레이트 흡착 방식을 사용하여 샘플을 샘플 플레이트에 고정합니다. 장비는 속도를 제어하기 위해 2단계 프로그램을 사용합니다.
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고속 스핀 코팅기(10K rpm 및 최대 5")
VTC-100PA 진공 회전 Coater는 반도체 공정, 크리스탈, 광디스크, 제판, 표면코팅 등에 적합합니다. 강산성, 강알칼리성 코팅용액에도 사용 가능합니다. 장비에는 시료의 크기에 따라 크기가 다른(표준용) 두 개의 진공 척이 장착되어 있습니다. 장비는 12개의 프로그램 세트를 저장할 수 있으며 각 세트에는 6개의 실행 단계가 포함되어 있습니다.
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100°C 가열 커버를 갖춘 고속 스핀 코터
VTC-100PA-I 진공 회전 Coater는 반도체 공정, 크리스탈, 광디스크, 제판, 표면 코팅 등에 적합합니다. 강산성, 강알칼리성 코팅 용액에도 사용할 수 있습니다. 장비에는 시료의 크기에 따라 크기가 다른(표준용) 두 개의 진공 척이 장착되어 있습니다. 장비는 12개의 프로그램 세트를 저장할 수 있으며 각 세트에는 6개의 실행 단계가 포함되어 있습니다.
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200°C 가열 커버를 갖춘 고속 스핀 코터
VTC-100PA-II 진공 회전 Coater는 반도체 공정, 크리스탈, 광디스크, 제판, 표면코팅 등에 적합합니다. 강산성, 강알칼리성 코팅용액에도 사용 가능합니다. 장비에는 시료의 크기에 따라 크기가 다른(표준용) 두 개의 진공 척이 장착되어 있습니다. 장비는 12개의 프로그램 세트를 저장할 수 있으며 각 세트에는 6개의 실행 단계가 포함되어 있습니다.
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자외선 커버가 있는 고속 스핀 코팅기(10K rpm 및 최대 5")
VTC-100PA-자외선 자외선 회전 Coater는 반도체 공정, 크리스탈, 광디스크, 제판, 표면 코팅 등에 적합합니다. 상부 커버는 자외선 광원을 채택하며 특히 자외선 광선에 민감한 재료에 적합하므로 빠르게 응고될 수 있습니다. 코팅 필름. 또한 자외선 램프에는 중합 기능이 있어 모노머를 폴리머 필름으로 중합할 수 있습니다.
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부식방지 스핀코터(6K RPM &앰프; 6" 웨이퍼 최대)
VTC-200P 진공 회전 Coater는 반도체 공정, 크리스탈, 광 디스크, 제판 및 표면 코팅 등에 적합합니다. 장비는 12개의 프로그램 세트를 저장할 수 있으며 각 세트에는 6개의 실행 단계가 포함되어 있습니다. 챔버의 상부 커버는 샘플을 가열할 수 있으며(옵션 기능), 이는 점도가 높은 박막 재료의 코팅 공정에 유리합니다.
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